智慧树现代半导体器件及先进制造章节答案(知到APP2023答案)
智慧树现代半导体器件及先进制造章节答案(知到APP2023答案)
1、智慧造章单选题:
本征硅的树现费米能级位于:()
选项:
A:
B:
C:
D:
答案:【
】
2、单选题:
硼掺杂的代半导体到A答案硅中,下列说法正确的器件是:()
选项:
A:与磷掺杂硅的导电类型一致
B:硅的晶体结构将发生改变
C:空穴浓度大于电子浓度
D:电子浓度大于空穴浓度
答案:【空穴浓度大于电子浓度】
3、多选题:
抑制离子注入工艺中沟道效应的及先进制节答方法有()。
选项:
A:降低离子注入能量
B:升高衬底温度
C:衬底表面沉积非晶薄膜
D:倾斜衬底
答案:【升高衬底温度;
衬底表面沉积非晶薄膜;
倾斜衬底】
4、案知多选题:
制造单晶硅衬底的智慧造章方法包括()。
选项:
A:氧化还原法
B:外延生长法
C:区域熔融法
D:直拉法
答案:【区域熔融法;
直拉法】
5、树现判断题:
当硅中掺杂浓度越小时,代半导体到A答案费米能级越靠近Ei。器件()
选项:
A:错
B:对
答案:【对】
1、及先进制节答多选题:
对于长沟道MOSFET器件,案知发生夹断后,智慧造章下面说法中正确的树现是()。
选项:
A:Vg≥Vd+Vth
B:Vg继续增加,代半导体到A答案Id不会继续增大
C:沟道中漏极一侧的电位为0
D:
答案:【Vg≥Vd+Vth;
Vg继续增加,Id不会继续增大;
沟道中漏极一侧的电位为0】
2、多选题:
沟道长度缩短有可能对MOSFET器件产生哪些影响()。
选项:
A:器件的漏极电流增大
B:器件的可靠性劣化
C:阈值电压增大
D:器件的集成度增加
答案:【器件的漏极电流增大;
器件的可靠性劣化;
器件的集成度增加】
3、单选题:
有关MOSFET器件亚阈值摆幅(S)的说法错误的是()
选项:
A:
B:
C:亚阈值摆幅的单位是mV
D:温度升高,亚阈值摆幅增大
答案:【亚阈值摆幅的单位是mV】
4、单选题:
有关MOSFET器件特征长度的说法正确的是()
选项:
A:仅与器件的结构参数有关
B:与器件的沟道长度呈正比
C:栅氧化层介电常数越厚,特征长度越小
D:沟道长度相等的器件,特征长度越小,DIBL越小
答案:【沟道长度相等的器件,特征长度越小,DIBL越小】
5、判断题:
MOSFET器件的阈值电压实际上是栅极MOS电容强反型区的起点。()
选项:
A:错
B:对
答案:【对】
公共艺术是将()元素结合在一起所诞生的新形式的艺术。
A.在20世纪七十年代出现的色谱方法是( )
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C.对行政违法者的制裁包括( )。
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\"保存用户的基本信息的文件是/etc下的()。
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